Tài liệu Thư viện số

Danh mục TaiLieu.VN

LUẬN VĂN: TĂNG CƯỜNG HIỆU ỨNG TỪ ĐIỆN TRONG VÙNG TỪ TRƯỜNG THẤP TRÊN CÁC VẬT LIỆU MULTIFERROICS METGLAS/PZT DẠNG LỚP CẤU TRÚC MICRÔ-NANÔ

Với hướng nghiên cứu này, chúng tôi đã tiến hành làm những công việc cụ thể như sau:- Chế tạo được các mẫu vật liệu multiferroics dạng lớp sử dụng băng từ siêu mềm Fe76.8Ni1.2B13.2Si8.8 và các tấm áp điện bằng phương pháp kết dính- Nghiên cứu quá trình từ hóa phụ thuộc vào hình dạng và kích thước băng từ có kích thước khác nhau. Tính toán được hệ số trường khử từ phụ thuộc vào tỉ số kích thước dài/rộng của băng.- Nghiên cứu tính chất từ giảo tĩnh và động trong từ trường một chiều và xoay chiều của các băng từ Metglas pha Ni với hình dạng và kích thước khác nhau- Nghiên cứu hiệu ứng từ-điện trên các vật liệu tổ hợp Fe76.8Ni1.2B13.2Si8.8/PZT trên các cấu hình và kích thước khác nhau. Tăng cường hiệu ứng từ-điện nhờ khai thác dị hướng hình dạng của băng từ và từ đó tối ưu cấu hình cho các nghiên cứu triển khai ứng dụng tiếp theo

Từ khóa: luận văn, phương pháp kết dính, hiệu ứng từ-điện, vật liệu multiferroics, băng từ Metglas pha Ni

59 p 275849 15/09/2012 332 7

Bình luận