A study on the effect of Ti target poisoning to TiN coating deposited by a DC magnetron sputtering
The DC magnetron sputtering is often used for fabricating thin hard coatings for a wide range of industrial applications. The technique allows using DC power for deposition low or non-conductive films from metal target without using expensive RF power for insulation target. However, the performance of DC reactive sputtering is affected significantly by a phenomenon namely target poisoning. When the target poisoning occurs, coating is formed not only on substrate surface but also on target surface, which results in the reduction of deposition rate and coating properties.
Xin lỗi bạn không thể down load tài liệu này. Bạn có thể xem tài liệu trực tuyến trên website hoặc liên hệ thư viện trường để được hướng dẫn. Cảm ơn bạn đã sử dụng dịch vụ của chúng tôi.
Bạn vui lòng tham khảo thỏa thuận sử dụng của thư viện số.